Русское Агентство Новостей
Информационное агентство Русского Общественного Движения «Возрождение. Золотой Век»
RSS

Завод «Микрон» заместил 26 импортных химических компонентов для производства микроэлектроники

17 января 2024
708

Фото: Пресс-служба Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы

Резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» – завод «Микрон» (входит в ГК «Элемент») – на конец 2023 года предприятие заместило отечественными аналогами 26 материалов, которые ранее приобретались у зарубежных производителей. Об этом во вторник, 2 января, сообщил министр правительства Москвы, руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики Владислав Овчинский. Компания ведет активную работу по импортозамещению химических материалов и аттестации российских компонентов для производства микроэлектроники. За девять месяцев 2023 года выручка кластера микроэлектроники ОЭЗ столицы составила почти 27,5 миллиарда рублей, что в 2,2 раза превышает показатели аналогичного периода 2022-го. Одним из ключевых направлений стратегии развития радиоэлектронной промышленности является производство устройств и систем на основе отечественной компонентной базы.

– Резидент особой экономической зоны Москвы на конец 2023 года аттестовал к применению в серийном производстве 26 российских химических материалов для производства микросхем с топологией 180-90 нанометров. Еще 28 находятся в разработке. Это обеспечит заводу независимость от зарубежных поставщиков, – отметил Владислав Овчинский. Чипы предприятия используют в банковских картах «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте «Тройка», школьной карте «Москвенок».В третьем квартале 2023 года предприятие аттестовало к применению в серийном производстве суспензию отечественного производства для химико-механической полировки полупроводниковой пластины. Материал успешно прошел испытания и соответствует требованиям сверхчистого микроэлектронного производства.

Сверхчистые материалы – это вещества, в которых уровень сторонних примесей не превышает 0,0001 процента. Трехмерная структура чипа формируется на кремниевой подложке слой за слоем в ходе строго регламентированного техпроцесса, который включает сложную высокоточную химобработку. В рамках него завод тестирует российские химические материалы, которые могут быть использованы для производства микросхем.

Полина Французова

Поделиться: